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          羲之,中國曝光機卻難量產精度逼近

          时间:2025-08-30 20:16:24来源:浙江 作者:代妈招聘
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          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀:

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,接近 ASML High-NA EUV 標準 。代妈哪里找生產效率遠低於 EUV 系統。【代妈机构】並在華為東莞工廠測試,使麒麟晶片性能提升有限。代妈费用

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